5.2.      Полевые транзисторы с изолированным затвором (МДП-транзисторы)

В отличие от транзисторов с управляющим переходом в МДП-транзисторах затвор изолирован от кристалла полупроводника слоем диэлектрика. МДП-транзисторы (структура металл-диэлектрик-полупроводник) выполняют из кремния. В качестве диэлектрика используют окисел кремния SiO2. Отсюда другое название этих транзисторов – МОП-транзисторы (структура металл-окисел-полупроводник). Наличие диэлектрика обеспечивает высокое входное сопро­тивление рассматриваемых транзисторов (1012 – 1014 Ом).

Принцип действия МДП-транзисторов основан на эффекте изме­нения проводимости приповерхностного слоя полупроводника на границе с диэлектриком под воздействием поперечного электрического поля. Приповерхностный слой полупроводника является токопроводящим каналом этих транзисторов. МДП-транзисторы выполняют двух типов: со встроенным и с индуцированным каналом.

МДП-транзисторы (рис. 5.6) представляют собой в общем случае четырех­электродный прибор. Четвертым электродом (подложкой), выпол­няющим вспомогательную функцию, является вывод от подложки исходной полупроводниковой пластины. МДП-транзисторы могут быть с каналом п- или p-типа.